[发明专利]阵列基板及制备方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 201410400960.7 申请日: 2014-08-15
公开(公告)号: CN104218041A 公开(公告)日: 2014-12-17
发明(设计)人: 龙春平;王祖强 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于显示技术领域,具体涉及一种阵列基板及制备方法和显示装置。该阵列基板包括薄膜晶体管以及导电电极,所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极和有源层,其中,所述源极和所述漏极同层设置于所述有源层两端、且所述源极和所述漏极直接与所述有源层上方至少部分接触;所述导电电极直接设置于所述漏极的上方。本发明通过阵列基板的层结构的改进,使用台阶式光刻胶工艺在一次构图工艺中完成多个层结构的制备,减少了构图工艺的次数,减少了阵列基板制造工艺过程中的曝光次数;源极和漏极直接与有源层接触,导电电极直接与漏极接触,而无需像现有技术那样需要通过过孔接触,能更好地保证阵列基板的紧凑性,保证阵列基板中各层结构的良好接触。
搜索关键词: 阵列 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括薄膜晶体管以及导电电极,所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极和有源层,其特征在于,所述源极和所述漏极同层设置于所述有源层两端、且所述源极和所述漏极直接与所述有源层上方至少部分接触;所述导电电极直接设置于所述漏极的上方。
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