[发明专利]液晶透镜制作方法及液晶透镜在审
申请号: | 201410393200.8 | 申请日: | 2014-08-11 |
公开(公告)号: | CN104102063A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 王东岳;吴振忠;陈魁;杨亮;何基强;李建华 | 申请(专利权)人: | 信利半导体有限公司 |
主分类号: | G02F1/29 | 分类号: | G02F1/29 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 516600 广东省汕尾*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种液晶透镜制作方法及液晶透镜,该方法包括:步骤1:获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线,记为理想曲线;步骤2:根据所述理想曲线制作第二透明高阻层,所述第二透明高阻层中的阻抗分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配;步骤3:利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜。本发明所提供的液晶透镜及其制作方法中,所述第二透明高阻层中的阻抗分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配,从而使得利用所述第二透明高阻层制作的液晶透镜中,距离液晶透镜中心不同位置处光程差分布曲线与液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线吻合度较高,提高了所述液晶透镜中光程差的利用率。 | ||
搜索关键词: | 液晶 透镜 制作方法 | ||
【主权项】:
一种液晶透镜的制作方法,其特征在于,包括:步骤1:获得液晶透镜中距离液晶透镜中心不同位置处光程差的理想分布曲线,记为理想曲线;步骤2:根据所述理想曲线制作第二透明高阻层,所述第二透明高阻层中的阻抗分布与所述理想曲线中的光程差分布相匹配;步骤3:利用所述第二透明高阻层制作液晶透镜。
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