[发明专利]基于石墨烯/二氧化硅/硅的雪崩光电探测器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201410390483.0 申请日: 2014-08-08
公开(公告)号: CN104300027B 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 徐杨;万霞;郭宏伟;施添锦;王锋;阿亚兹;陆薇;俞滨 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/032
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于石墨烯/二氧化硅/硅的雪崩光电探测器及制备方法,所述雪崩光电探测器包括n型硅衬底、二氧化硅隔离层、二氧化硅窗口、二氧化硅绝缘层、顶电极、石墨烯薄膜和底电极;本发明雪崩光电探测器可以进行宽光谱探测,解决了传统硅基PIN结对紫外光探测响应低的问题;该探测器以石墨烯作为有源层和透明电极,消除死层,增强入射光的吸收;二氧化硅绝缘层减少了硅表面态的影响,同时抑制了反向饱和电流;在较大的反向偏压作用下,光生载流子与硅晶格产生碰撞离子化,获得很高的增益;本发明采用的制备工艺简单,成本低廉,具有响应度高,响应速度快,内部增益大,开关比小,易于集成的特点。
搜索关键词: 基于 石墨 二氧化硅 雪崩 光电 探测器 制备 方法
【主权项】:
基于石墨烯/二氧化硅/硅的雪崩光电探测器,其特征在于,包括:n型硅衬底(1)、二氧化硅隔离层(2)、二氧化硅窗口(3)、二氧化硅绝缘层(4)、顶电极(5)、石墨烯薄膜(6)和底电极(7);其中,所述n型硅衬底(1)的上表面覆盖二氧化硅隔离层(2),在二氧化硅隔离层(2)上开有二氧化硅窗口(3),使二氧化硅隔离层(2)成凹形结构,在二氧化硅隔离层(2)的上表面覆盖顶电极(5),顶电极(5)的边界小于二氧化硅隔离层(2)的边界,在二氧化硅窗口(3)与n型硅衬底(1)交界处覆盖二氧化硅绝缘层(4);在二氧化硅隔离层(2)和顶电极(5)开口的内侧壁、顶电极(5)的上表面和二氧化硅绝缘层(4)的上表面覆盖石墨烯薄膜(6),顶电极(5)上表面石墨烯薄膜(6)的覆盖范围小于顶电极(5)的边界;在n型硅衬底(1)下表面设置底电极(7)。
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