[发明专利]一种掩膜板、阵列基板制作方法及阵列基板

摘要

本发明公开了一种掩膜板及对应的阵列基板制作方法和阵列基板，应用于液晶显示技术领域，该掩膜板包括不透光区域和透光区域，不透光区域包括中间竖直主干、中间水平主干及从中间竖直主干和中间水平主干延伸出的分支，中间竖直主干与中间水平主干分别与其分支形成一定夹角；透光区域包括设在分支之间的第一透光部分，在第一透光部分上设置有光干涉单元，该光干涉单元用以将具有第一光强的光处理为具有第二光强的光，其中第一光强大于第二光强，第二透光部分用于将第一光强的光引入以形成对应阵列基板上的接触孔，本发明还包括采用该掩膜板制作阵列基板的方法和制成的阵列基板。本发明提高了像素单元的开口率，提高了液晶面板的穿透率。

主权项

一种掩模板，其特征在于，所述掩膜板包括：不透光区域，所述不透光区域包括中间竖直主干、中间水平主干及从所述中间竖直主干和所述中间水平主干延伸出的分支，所述中间竖直主干与中间水平主干分别与所述分支形成一定夹角；透光区域，所述透光区域包括设在所述分支之间的第一透光部分，其中，在所述第一透光部分上设置有光干涉单元，所述光干涉单元用以将具有第一光强的光处理为具有第二光强的光，其中所述第一光强大于第二光强。