[发明专利]面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具有效
| 申请号： | 201410334842.0 | 申请日： | 2014-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN104097403A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 高建民 | 申请（专利权）人： | 深圳市中联讯科技有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/435 | 分类号： | B41J2/435 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 张明 |
| 地址： | 518115 广东省深圳市龙岗*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具，其中，所述面壳的电镀镭雕工艺包括如下步骤：S1)制作面壳；S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜；S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，所述镭雕的工艺参数为：镭雕速度为800mm/s-900mm/s；镭雕功率为35w-45w。本发明可效提高良品率，并且大大提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 电镀 工艺 镭雕治具 | ||
【主权项】：
一种面壳电镀镭雕工艺，其特征在于，包括如下步骤：S1)制作面壳；S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜；S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，所述镭雕的工艺参数为：镭雕速度为800mm/s‑900mm/s；镭雕功率为35w‑45w。该镭雕功率可根据产品膜厚度适应调整。
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