[发明专利]面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具

说明书

技术领域

本发明涉及表面处理技术领域，尤其涉及一种面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具。

背景技术

镭雕也叫激光雕刻或者激光打标，是一种利用光学原理进行表面处理的工艺。其加工原理为利用激光器发射的高强度聚集激光束于角点处，使材料氧化从而对其进行加工，打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质，或者通过光能导致表层物质的化学物理变化出痕迹，或者是通过管光能烧掉部分物质而刻出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显示所刻蚀的图形、文字。

在针对手机外壳进行镭雕的具体应用中，由于考虑到手机外壳的颜色搭配及美观度，在同一个产品上经常会存在几种颜色，现有技术中针对该种颜色搭配的方式是，通过制作两个或以上部件后再装配的方式进行颜色搭配，该种处理工艺虽然可生产处符合需要的外壳，但是该种生产工艺复杂、成本较高并且在完成后还需要进行装配，装配过程中会降低良品率、且费时费费力，大大降低了生产效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种工艺简单、可有效提高生产效率的面壳镭雕工艺，另外，还提供一种镭雕治具。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：提供一种面壳镭雕工艺，包括如下步骤：

S1)制作面壳；

S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜；

S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，所述镭雕的工艺参数为：

镭雕速度为800mm/s-900mm/s；

镭雕功率为35w-45w。

为解决上述技术问题，同一思路下提供一种镭雕治具，包括基座，还包括支撑板，所述支撑板竖直设置在所述基座上，所述支撑板一侧转动设置治具上模及治具下模，所述治具上模上设置治具下模且二者之间有间隙，面壳通过所述治具上模与治具下模之间的间隙夹紧。

本发明的有益效果在于：区别于现有技术，本发明在面壳表面喷涂镀膜，之后对之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，本发明工艺相对于现有技术首先采用镭雕工艺，不需要重复进行制作面壳，只需制作一个面壳之后根据需要进行喷涂镀膜即可，也省去了对多个面可进行组装的工序，使工序更加简单，此外，在镭雕过程中不用重复装取治具，减少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重复装取治具的时间，提高了生产效率。

附图说明

图1是本发明一优选实施例的工艺流程图；

图2是本发明一优选实施例镭雕治具的部分结构示意图。

标号说明：

1-基座，2-支撑板，3-治具下模，4-治具上模，5-面壳，6-固定螺丝，7-螺丝垫片。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详予说明。

本发明最关键的构思在于：首先制作面壳并在面壳上喷涂镀膜，之后利用镭雕治具对喷涂镀膜的一侧进行镭雕，随后剩余侧进行镭雕，本工艺提高了良品率，而且省去了重复装取治具的时间，提高了生产效率。

请参阅图1，本实施方式面壳的电镀镭雕工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1)制作面壳；

S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜；

S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，所述镭雕的工艺参数为：

镭雕速度为800mm/s-900mm/s；

镭雕功率为35w-45w。

从上述描述可知，本发明的有益效果在于：本发明在面壳表面喷涂镀膜，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，本发明工艺相对于现有技术不用重复装取治具，减少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重复装取治具的时间，提高了生产效率。

进一步的，所述喷涂镀膜的膜层包括底涂层及面涂层，所述底涂层的厚度为3um-5um，所述面涂层的厚度为8um-10um。面漆厚度过厚时，镭雕时表层雕不干净，镭雕部位不能显露想要的颜色；如面漆过薄，镭雕时会雕伤底色，影响整体外观效果。

进一步的，所述喷涂镀膜的材料为树脂。树脂根据不同的颜色选择。