[发明专利]面壳电镀镭雕工艺及镭雕治具

权利要求书

1.一种面壳电镀镭雕工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1)制作面壳；

S2)在制得的面壳的表面的指定区域进行喷涂镀膜；

S3)利用镭雕治具夹持步骤S2)所得面壳，之后对面壳的喷涂镀膜一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，随后旋转镭雕治具对喷涂镀膜另一侧的区域按照需要的图形进行镭雕，所述镭雕的工艺参数为：

镭雕速度为800mm/s-900mm/s；

镭雕功率为35w-45w。该镭雕功率可根据产品膜厚度适应调整。

2.根据权利要求1所述的面壳电镀镭雕工艺，其特征在于：所述喷涂镀膜的膜层包括底涂层及面涂层，所述底涂层的厚度为3um-5um，所述面涂层的厚度为8um-10um。

3.根据权利要求1所述的面壳电镀镭雕工艺，其特征在于：所述喷涂镀膜的材料为树脂。

4.根据权利要求1所述的面壳电镀镭雕工艺，其特征在于：所述面壳采用模具注塑成型，所述面壳的材料包括ABS及PC中任意一种或两者的组合。

5.一种镭雕治具，包括基座，其特征在于，还包括支撑板，所述支撑板竖直设置在所述基座上，所述支撑板一侧转动设置治具上模及治具下模，所述治具上模上设置治具下模且二者之间有间隙，面壳通过所述治具上模与治具下模之间的间隙夹紧。

6.根据权利要求5所述的镭雕治具，其特征在于：所述支撑板上设置转轴，所述治具上模连接在所述转轴上，所述支撑板上还设置弧形滑槽，所述治具下模上设置有所述滑槽相适配的导柱，所述导柱插入滑槽内并沿所述滑槽滑动。

7.根据权利要求6所述的镭雕治具，其特征在于：所述弧形滑槽开设在转轴的上方，所述弧形滑槽的内凹面朝向转轴，所述弧形滑槽的弧度为180°。

8.根据权利要求6所述的镭雕治具，其特征在于：所述弧形滑槽开设在转轴的一侧，所述弧形滑槽的内凹面朝向转轴，所述弧形滑槽的弧度为180°。