[发明专利]低折射率膜形成用组合物及其制法、低折射率膜的形成法

摘要

本发明提供用于形成低折射率且反射防止效果较高而且与基材的密合性或被膜表面的防水性和防污性优异的低折射率膜的低折射率膜形成用组合物及其制造方法以及低折射率膜的形成方法。低折射率膜形成用组合物是在烷氧基硅烷(A)中以预定比例混合水(B)、无机酸或有机酸(C)和有机溶剂(D)而生成上述烷氧基硅烷(A)的水解物，进一步在该水解物中以预定的比例混合在液体介质中分散有气相二氧化硅粒子的硅溶胶(E)来制备。

主权项

1.一种低折射率膜形成用组合物，其特征在于，在下述化学式(1)所示的烷氧基硅烷A中，相对于1质量份的所述烷氧基硅烷A，以水B为0.5～2.0质量份、无机酸或有机酸C为0.005～0.5质量份、醇、二醇醚或二醇醚乙酸酯的有机溶剂D为1.0～5.0质量份的比例混合而生成所述烷氧基硅烷的水解物，将所述水解物中的SiO2成分设为1质量份时，以硅溶胶E的SiO2成分为1～99质量份的方式，在所述水解物中混合在液体介质中分散有平均粒径为5～50nm的范围、比表面积为50～400m2/g的范围的气相二氧化硅粒子的所述硅溶胶E而制备，其中，所述比表面积为BET值，Si(OR)4  (1)其中，R表示具有1～5个碳原子的烷基。