[发明专利]一种微波等离子体化学气相沉积设备有效
申请号: | 201410214496.2 | 申请日: | 2014-05-20 |
公开(公告)号: | CN104726850B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 朱雨;王海侠 | 申请(专利权)人: | 朱雨 |
主分类号: | C23C16/517 | 分类号: | C23C16/517;C23C16/513;C23C16/511 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 518038 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种微波等离子体化学气相沉积设备,包括微波源,第一波导管,微波模式转换器和谐振装置,第一波导管的一端与微波源连接,另一端与微波模式转换器连接;谐振装置包括一谐振腔和微波聚集单元,谐振腔的顶部设有介质窗口,微波模式转换器位于介质窗口的上部并且能够将来自微波源的微波进行模式转换并经介质窗口传送至谐振腔,在谐振腔的内部设有基座,在基座上承载有基片,且基座的设置能够使其上承载的基片位于介质窗口的下方,微波聚集单元设于谐振腔上并能够将传送至谐振腔的微波聚集于基片上。本发明通过设置微波聚集单元,扩大了微波电场在基片上的分布面积,使微波能量更加集中在基片上方区域,有利于大面积的金刚石薄膜的沉积。 | ||
搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种微波等离子体化学气相沉积设备,其特征在于,包括微波源,第一波导管,微波模式转换器和谐振装置,所述第一波导管的一端与所述微波源连接,另一端与所述微波模式转换器连接;所述谐振装置包括一谐振腔和微波聚集单元,所述谐振腔的顶部设有介质窗口,所述微波模式转换器位于所述介质窗口的上部并且能够将来自所述微波源的微波进行模式转换并经所述介质窗口传送至所述谐振腔,在所述谐振腔的内部设有基座,在所述基座上承载有基片,且所述基座的设置能够使其上承载的所述基片位于所述介质窗口的下方,所述微波聚集单元设于所述谐振腔上并能够将传送至所述谐振腔的微波聚集于所述基片上,所述微波聚集单元为设于所述谐振腔侧壁上的倾斜部,所述谐振腔由金属材料制成,所述倾斜部由金属材料制成,并且所述倾斜部的垂直线相交于所述基片上,在所述谐振腔内,环绕所述基座设有凸台,且所述凸台与所述基座之间相对设有能够上下移动的金属部件,所述凸台为环设在所述基座外部的环形凸台,所述金属部件为设置在所述凸台与所述基座之间环形金属块,并且所述环形金属块的内面与所述基座的侧面接触,外面与所述环形凸台的内面接触,在所述谐振腔的内部还设有等离子体约束单元,其由透光材料制成,并且设置在所述基片的外部,所述等离子体约束单元的底部设置在所述凸台上,并且所述等离子体约束单元的设置能够使其内部形成真空。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的