[发明专利]定位治具与制作工艺机台有效
申请号: | 201410209883.7 | 申请日: | 2014-05-19 |
公开(公告)号: | CN105097628B | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | 胡良友;叶韦华;王育宗;谢南河 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/67 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种定位治具与制作工艺机台。定位治具用以标定并排设置的两刷洗件之间的距离。定位治具包括主体以及定位块。主体具有多个刻度标记,且包括一延伸部。延伸部具有相对的两侧边以及对应于此两侧边的宽度,其中靠近延伸部的尾端的位置上的宽度小于相对远离尾端的位置上的宽度。定位块滑设于主体,且具有承靠面。延伸部适于插入此两刷洗件之间。当承靠面与延伸部的此两侧边共同承靠此两刷洗件时,定位块对应于这些刻度标记中的一个,且被对应的刻度标记指示此两刷洗件之间的距离。 | ||
搜索关键词: | 定位 制作 工艺 机台 | ||
【主权项】:
一种定位治具,适用于一制作工艺机台,以标定并排设置的两刷洗件之间的距离,该定位治具包括:一主体,具有多个刻度标记,该主体包括一延伸部,该延伸部具有相对的两侧边以及对应于该两侧边的宽度,其中靠近该延伸部的一尾端的位置上的该宽度小于相对远离该尾端的位置上的该宽度,使该主体具有一锥度;以及一定位块,滑设于该主体,该定位块能够相对于该主体滑移以对应于该主体上的多个刻度标记中的一个,而具有不同的的定位基准;该定位块具有一承靠面,该延伸部适于插入该两刷洗件之间,其中当该承靠面与该延伸部的该两侧边共同承靠该两刷洗件时,该定位块对应于这些刻度标记中的一个,且被对应的该刻度标记指示该两刷洗件之间的距离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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