[发明专利]供气装置的控制方法以及基板处理系统

摘要

一种供气装置的控制方法以及基板处理系统。该供气装置具备汽化器、载气供给源以及供气通路。该供气装置的控制方法具有如下工序：向上述汽化器的原料容器的内部供给液体或者固体的原料的工序；在上述原料容器的内部使上述原料汽化来产生原料气的工序；对收容上述液体或者固体的原料的上述原料容器的内部进行排气的工序；从上述载气供给源向上述原料容器的内部供给载气的工序；以及从上述原料容器经由上述供气通路向对被处理基板实施处理的处理室通过上述载气输送上述原料气的工序。

主权项

1.一种供气装置的控制方法，该供气装置具备汽化器、载气供给源以及供气通路，该控制方法的特征在于，具有如下工序：向上述汽化器的原料容器的内部供给液体或者固体的原料的工序；在上述原料容器的内部使上述原料汽化来产生原料气的工序；对收容上述液体或者固体的原料的上述原料容器的内部进行排气的工序；从上述载气供给源向上述原料容器的内部供给载气的工序；以及从上述原料容器经由上述供气通路向对被处理基板实施处理的处理室通过上述载气输送上述原料气的工序，在针对上述被处理基板的处理结束之后、针对接着处理的被处理基板的处理开始之前执行上述原料容器的内部的排气，在上述原料容器的内部的压力中存在上述原料汽化而产生的上述原料气雾化的雾化压力，执行上述原料容器的内部的排气使得在开始针对上述接着处理的被处理基板的处理时，在向上述原料容器的内部供给了上述载气时上述原料容器的内部的压力低于上述雾化压力，上述汽化器具备对收容在上述原料容器的内部的上述原料进行加热的加热装置，上述加热装置从针对上述被处理基板的处理结束起至针对接着处理的被处理基板的处理开始为止对收容在上述原料容器内的上述原料继续加热。