[发明专利]一种基于缩颈型坩埚的无坩埚壁接触式单晶生长方法有效

专利信息
申请号: 201410121137.2 申请日: 2014-03-28
公开(公告)号: CN103911667A 公开(公告)日: 2014-07-09
发明(设计)人: 孙士文;何力;杨建荣;周昌鹤;虞慧娴;徐超;盛锋锋 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: C30B29/48 分类号: C30B29/48;C30B11/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种基于缩颈型坩埚的无坩埚壁接触式单晶生长方法,适用于晶体密度大于熔体密度的材料的大直径高质量单晶体生长。本发明利用碲锌镉(CdZnTe)熔体凝固时体积缩小的物理性质,设计了一种中部有缩颈的坩埚,并使晶体在坩埚内自上向下生长,当熔体凝固到坩埚缩颈处时,晶体被缩颈固定住,不再下滑,由于体积缩小,坩埚缩颈以下的晶体的直径小于坩埚的内径,晶体与坩埚壁分离,晶体直径越大,晶体与坩埚壁之间的间隙越大,分离越明显。本发明的优点在于晶体生长的直径大,质量优。
搜索关键词: 一种 基于 缩颈 坩埚 接触 式单晶 生长 方法
【主权项】:
一种基于缩颈型坩埚的无坩埚壁接触式单晶生长方法,其特征在于包括以下步骤:1)称量原材料,并将称量后的晶体生长所需的原材料装入缩颈型坩埚中;2)如原材料需合成,则将装有原材料的坩埚放入合成炉中进行材料合成,合成完成后将坩埚放入垂直式单晶炉内;如原材料无需合成,则将坩埚直接放入垂直式单晶炉内。坩埚在单晶炉内应垂直放置;3)设置单晶炉的温度,高温区在下,低温区在上,中间为梯度区,将坩埚置于高温区内,将单晶炉温度升至材料熔化温度以上并恒温保持数小时,使材料充分熔化;4)进行晶体生长,使晶体在坩埚内自上向下生长,生长方法可选用如下几种:a)固定炉体,向上移动坩埚;b)固定坩埚,向下移动炉体;c)坩埚与炉体均固定不动,向下移动温场;d)向上移动坩埚,同时向下移动炉体;5)晶体生长完成后,将单晶炉温度降至室温,从单晶炉内取出坩埚,再把晶体从坩埚内取出。
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