[发明专利]一种直接制备含有羟基磷灰石的微弧氧化陶瓷膜的方法有效
| 申请号: | 201410118521.7 | 申请日: | 2014-03-27 |
| 公开(公告)号: | CN103898591A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
| 发明(设计)人: | 杨钢;严继康;唐婉霞;吴云峰;黄思仁;倪尔鑫;施哲;方树铭 | 申请(专利权)人: | 昆明冶金研究院 |
| 主分类号: | C25D11/26 | 分类号: | C25D11/26 |
| 代理公司: | 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 | 代理人: | 姜开侠 |
| 地址: | 650031 *** | 国省代码: | 云南;53 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了一种微弧氧化法直接制备含有羟基磷灰石的微弧氧化陶瓷膜的方法,包括将钛合金Ti6Al4V切割成圆柱形钛材,在试样的上方打孔,对钛合金进行表面打磨处理至试样表面无划痕,然后再进行除油、碱洗及去离子水洗,自然烘干备用;将A步骤预处理制备的圆柱形钛材悬挂于电解液中,进行微弧氧化,所用电源为脉冲电源,电源电压450~475V,频率为900~1200Hz;将微弧氧化处理后的试样用去离子水清洗后烘干得到含有羟基磷灰石的微弧氧化陶瓷膜。本发明提供的方法操作方便,工艺简单,节能环保,设备要求低,制备周期短,成本低廉。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 直接 制备 含有 羟基 磷灰石 氧化 陶瓷膜 方法 | ||
【主权项】:
一种直接制备含有羟基磷灰石的微弧氧化陶瓷膜的方法,其特征在于包括如下步骤:A、预处理:将钛合金Ti6Al4V切割成圆柱形钛材,在试样的上方打孔,对钛合金进行表面打磨处理至试样表面无划痕,然后再进行除油、碱洗及去离子水洗,自然烘干备用;B、微弧氧化:将A步骤预处理制备的圆柱形钛材悬挂于电解液中,进行微弧氧化,所用电源为脉冲电源,电源电压450~475V,频率为900~1200HZ;C、将微弧氧化处理后的试样用去离子水清洗后烘干得到含有羟基磷灰石的微弧氧化陶瓷膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明冶金研究院,未经昆明冶金研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410118521.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。





