[发明专利]薄膜太阳能电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410082857.2 申请日: 2014-03-07
公开(公告)号: CN104051569B 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: 黄乾燿;邱永升;李文钦 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0445;H01L31/0749
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 代理人: 章社杲,孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种用于制造薄膜太阳能电池(诸如CIS基薄膜太阳能电池)中的吸收层(诸如CIS基吸收层)的方法。一种方法包括硒化步骤、退火步骤和硫化步骤。另一种方法包括退火步骤和硫化步骤。此外,与传统的吸收层相比,的表面与底部的镓的比率更大,并且与传统的吸收层相比,本发明的CIS基吸收层的硫与硫加硒的比率更小。本发明也提供了一种用于在较大面积上方产生吸收层(诸如CIS基吸收层)的工艺,其中,通过更好的深度组分分布(通过可控的镓扩散/硫掺入和增大的晶粒尺寸),该层能够同时实现高开路电压和高填充因数。
搜索关键词: 薄膜 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种用于制造器件的吸收层的方法,所述方法包括以下步骤:(a)提供包括位于衬底上的前体膜和金属背电极层的对象;(b)在第一温度“T1”下对所述对象实施持续第一时间段“Δt1”的第一工艺,0分钟<Δt1≤300分钟;(c)在第二温度“T2”下对所述对象实施持续第二时间段“Δt2”的第二工艺,其中,所述第二工艺包括将所述对象保持在惰性气体环境中,并且其中,T1≤T2,0分钟<Δt2≤300分钟;以及(d)在第三温度“T3”下对所述对象实施持续第三时间段“Δt3”的第三工艺,0分钟<Δt3≤300分钟。
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