[发明专利]喷嘴组件、基板处理设备以及处理基板的方法有效
| 申请号： | 201410073752.0 | 申请日： | 2014-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN104014497B | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 李世源;李龙熙;金裁容 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/10;H01L21/02;B05B13/00;B05B13/02;B05B15/04;B05B15/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 田军锋,魏金霞 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种喷嘴组件、基板处理设备以及处理基板的方法。该设备包括卡盘，该卡盘支承基板并且是可旋转的；容器，该容器围绕卡盘并且收集由于基板的旋转而散落的化学物质；以及第一喷洒喷嘴，该第一喷洒喷嘴将化学物质喷洒至基板。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 组件 处理 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种处理基板的方法，包括：第一次剥离，在所述第一次剥离中，摆动喷嘴在旋转基板的上方摆动并且将作为液体的化学物质喷射至所述旋转基板；第二次剥离，在所述第二次剥离中，喷洒喷嘴第一次将与所述化学物质同样的化学物质作为细小颗粒喷洒至所述旋转基板的上方；以及清洗，在所述清洗中，通过将去离子(DI)水供应至所述旋转基板来去除所述基板上的残留化学物质。
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