[发明专利]喷嘴组件、基板处理设备以及处理基板的方法

说明书

技术领域

此处公开的本发明涉及一种基板处理设备，并且更特别地涉及一种包括喷嘴组件的基板处理设备。

背景技术

通常，在制造平板显示器装置或半导体的过程中，随着处理玻璃基板或晶片的过程，执行有诸如光刻胶（PR）涂覆工艺、显影工艺、蚀刻工艺和灰化工艺之类的各种工艺。

在每个工艺中，执行使用化学物质或去离子（DI）水的湿法清洗工艺以去除附着至基板的各种污染物并且执行用于干燥基板的表面上的残留化学物质或去离子水的干燥工艺。

韩国专利公开申请No.10-2011-0116471公开了一种清洗设备。该清洗设备包括用于供应用来清洁的清洗溶液的清洗溶液供应喷嘴、供应有机溶剂的有机溶剂喷射喷嘴以及喷射用于干燥的干燥气体的干燥气体喷射喷嘴。

清洁溶液是一种提供至基板并且通过化学反应去除施加在基板上的薄膜的液体。根据上述方法，清洗溶液的量是大的，从而增加了用于执行工艺的成本。并且，利用蚀刻工艺不容易去除形成在PR薄膜上的壳层。

[引用的发明]

引用的文献：韩国专利申请公开No.10-2011-0116471

发明内容

本发明提供了一种基板处理设备，该基板处理设备能够降低用于利用化学物质执行处理过程的成本。

本发明还提供了一种基板处理设备，该基板处理设备能够有效地去除施加在基板上的薄膜。

本发明还提供了一种基板处理设备，该基板处理设备能够提高化学物质的可复用性。

本发明的实施方式提供了基板处理设备，该基板处理设备包括：卡盘，该卡盘支承基板并且是可旋转的；容器，该容器围绕卡盘并且收集由于基板的旋转而散落的化学物质；以及第一喷洒喷嘴，该第一喷洒喷嘴将化学物质喷洒至基板。

在一些实施方式中，该设备还可以包括：臂部，该臂部在其前端上安装有第一喷洒喷嘴；以及第二喷洒喷嘴，该第二喷洒喷嘴与第一喷洒喷嘴一起安装在臂部的前端上并且将与上述化学物质同样的化学物质喷洒至基板。

在另一实施方式中，第一喷洒喷嘴和第二喷洒喷嘴可以设置在直线上以使得化学物质的喷射线处于相同的直线上。

在又一实施方式中，第一喷洒喷嘴和第二喷洒喷嘴可以交替地设置以使得化学物质的喷射线处于不同的直线上。

在又一实施方式中，第一喷洒喷嘴可以将化学物质喷洒至与基板的半径相对应或比基板的半径更小的喷射区域。

在再一实施方式中，第一喷洒喷嘴可以设置成使得喷洒至基板的化学物质的入射方向与基板的顶表面垂直。

在另一实施方式中，第一喷洒喷嘴可以设置成使得喷洒至基板的化学物质的入射方向与基板的顶表面形成锐角。

在又一实施方式中，该设备还可以包括：摆动喷嘴，该摆动喷嘴将与上述化学物质同样的化学物质喷射至基板；以及摆动喷嘴驱动器，该摆动喷嘴驱动器允许摆动喷嘴在化学物质被喷射的同时在基板的顶部上方摆动。

在又一实施方式中，容器可以包括：第一收集桶，该第一收集桶围绕卡盘并且形成呈环形的第一进口；以及第二收集桶，该第二收集桶围绕第一收集桶并且形成在第一进口上方的呈环形的第二进口。该设备还可以包括：收集管路，该收集管路连接至第一收集桶并且收集流动到第一收集桶中的化学物质以重新利用该化学物质；废液管路，该废液管路连接至第二收集桶并且弃用流动到第二收集桶中的化学物质；以及控制器，该控制器提升卡盘和容器中的任一者以允许从第一喷洒喷嘴喷洒的化学物质流过第一进口并且允许从摆动喷嘴喷射出的化学物质流过第二进口。

在再一实施方式中，该设备还可以包括吸入出现在容器中的烟气并且将该烟气向外排出的排出管。此处，排出管的吸入压力在从喷洒喷嘴喷洒化学物质的过程中可能比在从摆动喷嘴喷洒化学物质的过程中更大。

在另一实施方式中，该设备还可以包括位于容器外部的预分配器，喷洒喷嘴在将化学物质喷射至基板之前将化学物质初步喷射至该预分配器。此处，该预分配器可以包括：壳体，该壳体在其中形成有空间并且在其顶部上形成有喷洒喷嘴插入到其中的孔；网状件，该网状件设置在壳体中并且分散喷射出的化学物质的撞击力；排放管路，该排放管路将喷射到壳体中的化学物质向外排放；以及排出口，该排出口将壳体中的残留化学物质的细小颗粒向外排出。