[发明专利]喷嘴组件、基板处理设备以及处理基板的方法

权利要求书

1.一种处理基板的方法，包括：

第一次剥离，在所述第一次剥离中，摆动喷嘴在旋转基板的上方摆动并且将作为液体的化学物质喷射至所述旋转基板；

第二次剥离，在所述第二次剥离中，喷洒喷嘴第一次将与所述化学物质同样的化学物质作为细小颗粒喷洒至所述旋转基板的上方；以及

清洗，在所述清洗中，通过将去离子(DI)水供应至所述旋转基板来去除所述基板上的残留化学物质。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括所述第二次剥离之后的第三次剥离，在所述第三次剥离中，所述喷洒喷嘴第二次将与所述化学物质同样的化学物质喷洒至所述旋转基板的上方，

其中，所述基板的旋转速度在所述第三次剥离中比在所述第二次剥离中高。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述喷洒喷嘴将所述化学物质喷射至所述基板之前从预分配器初步喷射一定量的化学物质。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，用于收集由于所述基板的旋转而散落的化学物质的容器包括围绕用于支承所述基板的卡盘的呈环形的第一进口以及形成在所述第一进口上方的呈环形的第二进口，

其中，在所述第一次剥离中喷射至所述基板的所述化学物质流过第二进口并且在所述第二次剥离中喷射至所述基板的化学物质流过所述第一进口，

其中，流过所述第一进口的化学物质通过收集管路收集，并且

其中，流过所述第二进口的化学物质通过废液管路丢弃。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，连接至所述容器的排出管将出现在所述容器中的雾吸入并且将该雾向外排出，并且

其中，所述排出管的吸入压力在所述第一次剥离中比在所述第二次剥离中大。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述喷洒喷嘴设置成使得其纵向方向与所述基板的顶表面垂直以将所述化学物质喷射至所述基板。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述喷洒喷嘴设置成使得其纵向方向与所述基板竖直地倾斜以喷射所述化学物质。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述喷洒喷嘴包括安装在一个臂部上的第一喷洒喷嘴和第二喷洒喷嘴，并且

其中，所述第一喷洒喷嘴和所述第二喷洒喷嘴喷射化学物质以使得所述化学物质的喷射线处于相同的直线上。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述喷洒喷嘴包括安装在一个臂部上的第一喷洒喷嘴和第二喷洒喷嘴，并且

其中，所述第一喷洒喷嘴和所述第二喷洒喷嘴喷射化学物质以使得所述化学物质的喷射线处于不同的直线上。