[发明专利]在原子层沉积反应器中形成衬底卷材轨迹在审
| 申请号： | 201380077818.7 | 申请日： | 2013-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN105555998A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | T·马利南;V·基尔皮 | 申请（专利权）人： | 皮考逊公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 李辉;吕世磊 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 用于通过使第一组支撑辊(17，27，37)关于第二组支撑辊(18，28)移动而将具有重复图案的衬底卷材(15)轨迹形成到沉积反应器(10)的反应空间中的设备和方法。本发明的一个效果是自动的轨迹形成。另一效果是通过经由穿过用于衬底卷材的第一组支撑辊行进的路线将气体从反应空间中去除而获得自顶至底的流动的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 沉积 反应器 形成 衬底 卷材 轨迹 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：通过使第一组支撑辊关于第二组支撑辊移动，将具有重复图案的衬底卷材轨迹形成到原子层沉积反应器的反应容器中；以及当所述轨迹已经被形成时由所述第一组支撑辊和所述第二组支撑辊来支撑所述衬底卷材。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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