[发明专利]钌络合物及其制造方法以及含钌薄膜的制作方法有效

专利信息
申请号: 201380069822.9 申请日: 2013-12-06
公开(公告)号: CN104903337B 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 多田贤一;山本俊树;尾池浩幸;摩庭笃;千叶洋一;岩永宏平;河野和久 申请(专利权)人: 东曹株式会社;公益财团法人相模中央化学研究所
主分类号: C07F15/00 分类号: C07F15/00;C23C16/18;H01L21/316;H01L21/318
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 沈雪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种通式(1a)、(2)、(3)等所示的钌络合物及该钌络合物的制造方法,其无论在使用氧化性气体作为反应气体的条件下还是在使用还原性气体作为反应气体的条件下均可用于制作含钌薄膜。(式中,R1a~R7a、R8~R9、R10~R18表示碳原子数1~6的烷基。n表示0~2的整数。)
搜索关键词: 络合物 及其 制造 方法 以及 薄膜 制作方法
【主权项】:
1.一种钌络合物,其由通式(1a)表示,式中,R1a、R2a、R3a、R4a及R5a各自独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基,但不包括R1a、R2a、R3a、R4a及R5a全部同时为甲基的情况,R6a、R7a各自独立地表示碳原子数1~6的烷基。
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