[发明专利]涂层检查方法在审
| 申请号： | 201380056991.9 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN104854257A | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | T·E·菲斯克 | 申请（专利权）人： | SIO2医药产品公司 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C16/52;G01B11/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 披露了一种用于检测化学气相沉积(CVD)涂层中的间断部的反射测量方法和其他方法。该方法包括几个步骤。一个热塑性容器壁(710)设置为具有一个外表面、一个内表面、以及在该内表面和该外表面中的至少一个上的一个CVD涂层。该容器壁和该CVD涂层具有不同的折射率。电磁能量(718)在有效引起能量从该CVD涂层的多个位置反射的条件下撞击到该CVD涂层的多个位置上。对该反射能量进行分析以确定该反射能量是否包括该CVD涂层中的一个间断部的至少一个伪影。 | ||
| 搜索关键词： | 涂层 检查 方法 | ||
【主权项】：
一种用于检测化学气相沉积(CVD)涂层中的间断部的反射测量方法，该方法包括：·提供一个热塑性容器壁，该热塑性容器壁具有一个外表面、一个内表面、以及在该内表面和该外表面中的至少一个上的一个CVD涂层，该容器壁和该CVD涂层具有不同的折射率；·将电磁能量在有效引起能量从该CVD涂层的多个位置反射的条件下碰撞在该CVD涂层的多个位置上；·对该反射能量进行分析以确定该反射能量是否包括该CVD涂层中的一个间断部的至少一个伪影。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
