[发明专利]涂层检查方法在审
| 申请号: | 201380056991.9 | 申请日: | 2013-10-31 |
| 公开(公告)号: | CN104854257A | 公开(公告)日: | 2015-08-19 |
| 发明(设计)人: | T·E·菲斯克 | 申请(专利权)人: | SIO2医药产品公司 |
| 主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/52;G01B11/06 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李英 |
| 地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 涂层 检查 方法 | ||
1.一种用于检测化学气相沉积(CVD)涂层中的间断部的反射测量方法,该方法包括:
·提供一个热塑性容器壁,该热塑性容器壁具有一个外表面、一个内表面、以及在该内表面和该外表面中的至少一个上的一个CVD涂层,该容器壁和该CVD涂层具有不同的折射率;
·将电磁能量在有效引起能量从该CVD涂层的多个位置反射的条件下碰撞在该CVD涂层的多个位置上;
·对该反射能量进行分析以确定该反射能量是否包括该CVD涂层中的一个间断部的至少一个伪影。
2.如权利要求1所述的方法,其中该能量源提供在从40到1100nm的波长范围的至少一部分内的能量。
3.如权利要求1或2所述的方法,进一步包括将该反射能量映射到该CVD涂层的该多个位置上。
4.如权利要求3所述的方法,进一步包括记录该反射能量的映射。
5.如权利要求4所述的方法,其中该映射是由配置用于将所记录的映射转换成一个数据流的一个电荷耦合装置图像传感器来记录的。
6.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中该分析步骤是通过一个计算机处理器来进行的,该计算机处理器被编程用于分析该数据流以便找出至少一个表示相对于一个离散区域的背景具有对比亮度的图像的该离散区域,从而表示一个间断部的伪影。
7.如权利要求6所述的方法,其中分析包括确定该间断部的面积。
8.如权利要求6所述的方法,其中该处理器被配置成用于确定在该CVD涂层中检测到的所有间断部的总面积。
9.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中该碰撞能量是多色的。
10.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中该反射能量包含由其与该CVD涂层的相互作用产生的干涉图样。
11.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中该反射能量的颜色不同于该碰撞能量的颜色。
12.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中该容器壁是至少部分透明的。
13.如权利要求12所述的方法,其中该容器壁被定位成使得该碰撞能量穿过该容器壁以到达该CVD涂层。
14.如权利要求12所述的方法,其中该容器壁被定位成使得该反射能量在对该反射能量进行分析之前穿过该容器壁。
15.如权利要求12所述的方法,其中该容器壁被定位成使得该碰撞能量向内碰撞在该容器壁的外部上并且从放置在该容器壁的内部上的一个CVD涂层反射。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





