[发明专利]生产金刚石和执行实时原位分析的装置和方法有效
申请号: | 201380045346.7 | 申请日: | 2013-08-29 |
公开(公告)号: | CN104903490B | 公开(公告)日: | 2017-11-07 |
发明(设计)人: | D·S·米斯拉 | 申请(专利权)人: | 二A科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C30B25/10;H01J37/32 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 周春梅,傅永霄 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于生产金刚石和执行实时原位分析的装置,包括外壳;反应腔室,所述反应腔室在结构上连接到所述外壳,所述反应腔室包括适于容纳金刚石生长的封闭区域;辐射工具,所述辐射工具在所述外壳内安装在所述反应腔室上方,所述辐射工具适于发射微波到所述反应腔室内,以实现所述反应腔室内金刚石的生长;记录工具,所述记录工具安装在环形外壳内,且安装在所述反应腔室上方;介电盖,所述介电盖设置在所述反应腔室的顶部处,并布置在所述辐射工具与记录工具两者和所述封闭区域之间,并且所述介电盖适于允许来自所述辐射工具的辐射波进入所述反应腔室,还适于允许所述记录工具记录所述反应腔室内金刚石的生长。 | ||
搜索关键词: | 生产 金刚石 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种用于生产金刚石和执行实时原位分析的装置,包括:外壳,反应腔室,所述反应腔室在结构上连接到所述外壳,所述反应腔室包括适于容纳金刚石生长的封闭区域,辐射工具,所述辐射工具在所述外壳内安装在所述反应腔室上方,所述辐射工具适于发射微波到所述反应腔室内,以实现所述反应腔室内金刚石的生长,记录工具,所述记录工具安装在环形外壳内,且安装在所述反应腔室上方,介电盖,所述介电盖设置在所述反应腔室的顶部上,并布置在所述辐射工具与记录工具两者和所述封闭区域之间,并且所述介电盖适于允许来自所述辐射工具的辐射波进入所述反应腔室,还适于允许所述记录工具记录所述反应腔室内金刚石的生长。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的