[发明专利]生产金刚石和执行实时原位分析的装置和方法

权利要求书

1.一种用于生产金刚石和执行实时原位分析的装置，包括：

外壳，

反应腔室，所述反应腔室在结构上连接到所述外壳，所述反应腔室包括适于容纳金刚石生长的封闭区域，

辐射工具，所述辐射工具在所述外壳内安装在所述反应腔室上方，所述辐射工具适于发射微波到所述反应腔室内，以实现所述反应腔室内金刚石的生长，

记录工具，所述记录工具安装在环形外壳内，且安装在所述反应腔室上方，

介电盖，所述介电盖设置在所述反应腔室的顶部上，并布置在所述辐射工具与记录工具两者和所述封闭区域之间，并且所述介电盖适于允许来自所述辐射工具的辐射波进入所述反应腔室，还适于允许所述记录工具记录所述反应腔室内金刚石的生长。

2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：

测量机构，所述测量机构设置在所述反应腔室的周边处，所述测量机构包括发射分析束的工具和接收分析束的工具，

显微镜，所述显微镜邻近设置在所述反应腔室的外侧上。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述外壳安装在所述反应腔室的顶部上。

4.根据权利要求3所述的装置，其中所述反应腔室安装在支撑件的顶部上，所述支撑件借助于密封环联接到所述反应腔室。

5.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述反应腔室安装在所述外壳内。

6.根据权利要求5所述的装置，其中所述外壳安装在支撑件的顶部上，所述支撑件借助于密封环联接到所述反应腔室。

7.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述介电盖为石英盖的形式。

8.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述辐射工具为微波天线的形式。

9.根据权利要求4所述的装置，其中所述反应腔室设有同心地安装在其中的基底台，所述基底台由所述支撑件支撑。

10.根据权利要求4所述的装置，其中所述支撑件为基板支撑件的形式。

11.根据权利要求1或2所述的装置，其中反应腔室包括圆柱形金属侧壁。

12.根据权利要求11所述的装置，其中多个凹口整体形成在所述圆柱形金属侧壁的外表面上。

13.根据权利要求11所述的装置，其中多个进入点形成在所述圆柱形金属侧壁上的选定位置处。

14.根据权利要求13所述的装置，其中存在4个进入点。

15.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述外壳为具有圆柱形金属侧壁的环形外壳的形式。

16.根据权利要求2所述的装置，其中，所述记录工具为高保真照相机的形式。

17.根据权利要求2所述的装置，所述测量机构安装在所述反应腔室的周边处且邻近第一和第三进入点。

18.根据权利要求2所述的装置，发射分析束的所述工具为电子枪的形式。

19.根据权利要求2所述的装置，所述显微镜邻近设置在所述反应腔室的第二进入点的外侧上。

20.根据权利要求2所述的装置，进一步包括分析仪器，所述分析仪器邻近设置在所述装置的第四进入点的外侧处，所述分析仪器包括拉曼光谱仪和XRD。

21.根据权利要求9所述的装置，其中所述基底台进一步包括调节工具，所述调节工具用于沿着环形外壳的轴线调节金刚石晶种的生长表面的位置。

22.根据权利要求21所述的装置，其中所述调节工具为致动器或步进马达的形式。