[发明专利]化学气相沉积反应器中辐射测量偏离误差的缩减有效
申请号: | 201380033049.0 | 申请日: | 2013-06-21 |
公开(公告)号: | CN104520470B | 公开(公告)日: | 2017-05-17 |
发明(设计)人: | 古瑞·塔斯;周进;权大元 | 申请(专利权)人: | 维易科仪器有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/50 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 陈炜 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用以减少在例如CVD反应器之类的容器中的辐射测温偏离误差的设备。在一实施例中,辐射测温计利用焦外远心透镜装置。焦外远心透镜装置聚焦于无限远处,但却被用于捕获来自于焦点外之相对接近之目标物(例如在数米内)之辐射。捕获来自目标物之准直的辐射减少了杂散辐射之贡献。在另一实施例中,源自于周围加热组件之指定部分之散射辐射,可藉由若干机制中的一个而局部地减少,包含减少指定部分之发射(例如操作温度)、或者捕获源自于该指定部分之辐射之一部分或使其偏斜。固定于接近由晶圆载具之中心延伸之轴线并横跨该指定部分的辐射测温计承受较少的杂散辐射,藉此可提供更可靠之温度读数。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 反应器 辐射 测量 偏离 误差 缩减 | ||
【主权项】:
一种远心光学装置,其用于适用于缩减目标物温度测量上杂散辐射之效应的辐射测温计,该远心光学装置包括:孔径光闸;由一个或多个光学元件构成的物组件,该物组件用以传输辐射至该孔径光闸,该物组件及该孔径光闸限定出光学轴,该物组件限定出相对于该物组件内第一参考点的第一焦距,该第一参考点位于该光学轴上且与该孔径光闸相隔一段距离,该距离等于该物组件的该第一焦距,以将来自于该目标物的经视口窗的该辐射传输通过该物组件,并将来自于该目标物之该辐射聚焦于该孔径光闸上,该视口窗设置于凹槽内以限制入射于该视口窗上之杂散辐射量;及电磁辐射探测器,用以产生表示该目标物之该温度测量的信号,该信号来自于由该物组件透过该孔径光闸传输到该电磁辐射探测器的该辐射之至少一部分,该远心光学装置安装于晶圆载具上方,并调整位向在使得由该目标物传输到该物组件之该辐射焦外的距离,观察由该晶圆载具之顶面所支持的该目标物。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的