[发明专利]化学气相沉积反应器中辐射测量偏离误差的缩减有效

专利信息
申请号: 201380033049.0 申请日: 2013-06-21
公开(公告)号: CN104520470B 公开(公告)日: 2017-05-17
发明(设计)人: 古瑞·塔斯;周进;权大元 申请(专利权)人: 维易科仪器有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/50
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 陈炜
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 用以减少在例如CVD反应器之类的容器中的辐射测温偏离误差的设备。在一实施例中,辐射测温计利用焦外远心透镜装置。焦外远心透镜装置聚焦于无限远处,但却被用于捕获来自于焦点外之相对接近之目标物(例如在数米内)之辐射。捕获来自目标物之准直的辐射减少了杂散辐射之贡献。在另一实施例中,源自于周围加热组件之指定部分之散射辐射,可藉由若干机制中的一个而局部地减少,包含减少指定部分之发射(例如操作温度)、或者捕获源自于该指定部分之辐射之一部分或使其偏斜。固定于接近由晶圆载具之中心延伸之轴线并横跨该指定部分的辐射测温计承受较少的杂散辐射,藉此可提供更可靠之温度读数。
搜索关键词: 化学 沉积 反应器 辐射 测量 偏离 误差 缩减
【主权项】:
一种远心光学装置,其用于适用于缩减目标物温度测量上杂散辐射之效应的辐射测温计,该远心光学装置包括:孔径光闸;由一个或多个光学元件构成的物组件,该物组件用以传输辐射至该孔径光闸,该物组件及该孔径光闸限定出光学轴,该物组件限定出相对于该物组件内第一参考点的第一焦距,该第一参考点位于该光学轴上且与该孔径光闸相隔一段距离,该距离等于该物组件的该第一焦距,以将来自于该目标物的经视口窗的该辐射传输通过该物组件,并将来自于该目标物之该辐射聚焦于该孔径光闸上,该视口窗设置于凹槽内以限制入射于该视口窗上之杂散辐射量;及电磁辐射探测器,用以产生表示该目标物之该温度测量的信号,该信号来自于由该物组件透过该孔径光闸传输到该电磁辐射探测器的该辐射之至少一部分,该远心光学装置安装于晶圆载具上方,并调整位向在使得由该目标物传输到该物组件之该辐射焦外的距离,观察由该晶圆载具之顶面所支持的该目标物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于维易科仪器有限公司,未经维易科仪器有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380033049.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top