[发明专利]含碱土金属的膜的沉积法

摘要

本发明描述在基板上进行化学反应以沉积金属膜的方法。该方法包括使基板暴露于含有第二族金属的第一反应物气流及含有卤化物的第二反应物气流下，以在基板上形成含有金属卤化物的第一层；使该基板暴露于含有氧化剂的第三反应物气体下，以在基板上形成含有金属过氧化物或金属氢氧化物的第二层；使该基板暴露于热或等离子体下以将金属过氧化物或金属氢氧化物转化为金属氧化物。该方法可重复进行，藉以形成不含任何金属碳酸盐杂质的金属氧化物膜。

主权项

一种在基板上沉积金属氧化物膜的方法，包括：(a)使基板表面暴露于金属前体及卤化物前体，藉以在所述基板表面上提供金属卤化物膜，其中所述金属前体包括第二族金属，且其中所述卤化物前体选自F2、C12、Br2或I2；随后(b)使含有所述金属卤化物膜的基板表面暴露于氧化剂；及(c)随后使所述基板表面受热或暴露于等离子体以在所述基板上提供金属氧化物膜。