[发明专利]含碱土金属的膜的沉积法

权利要求书

1.一种在基板上沉积金属氧化物膜的方法，包括：

(a)使基板表面暴露于金属前体及卤化物前体，藉以在所述基板表面上提供金属卤化物膜，其中所述金属前体包括第二族金属，且其中所述卤化物前体选自F₂、C1₂、Br₂或I₂；随后

(b)使含有所述金属卤化物膜的基板表面暴露于氧化剂；及

(c)随后使所述基板表面受热或暴露于等离子体以在所述基板上提供金属氧化物膜。

2.如权利要求1所述的方法，进一步包括在每个暴露步骤之后流入净化气体。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(a)、步骤(b)或步骤(c)重复一次或更多次。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述金属前体是选自于锶前体、钙前体及镁前体之中。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述金属前体包括：Sr(thd)₂(双(四甲基庚二酮酸)锶)(bis(tetramethylheptanedionate)strontium)、Sr(methd)₂(双(甲氧基乙氧基四甲基庚二酮酸)锶)(bis(methoxyethoxytetramethylheptanedionate)strontium)及Sr(dpm)₂(双(二新戊酰基甲烷)锶)(bis(dipivaloylmethanate)strontium)、Ca(C₁₁H₁₉O₂)₂(双(四甲基庚二酮酸)钙)、C₁₀H₂F₁₂O₄Ca(六氟戊二酮酸钙)、C₆H₁₄O₄Ca(甲氧基乙醇钙)、Mg(C₅H₅)₂(双(环戊二烯基)镁(II))、C₂₀H₃₀Mg(双(五甲基环戊二烯)镁)或上述化合物的组合物。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述氧化剂包括以下物质的其中一者或更多者：H₂O、H₂O₂、O₂、O₃、N₂O、NOx、硝酸盐类(nitrates)、醇类(alcohols)、羧酸类(carboxylic acids)、CO、CO₂及HCOH。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述金属氧化物膜具有达约的厚度。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板受热。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板暴露于等离子体。

10.一种在基板上沉积氧化锶膜的方法，所述方法包括：

(a)使基板表面暴露在锶前体及卤化物前体的交替脉冲下，藉以在所述基板表面上提供卤化锶膜，且其中所述卤化物前体选自F₂、Cl₂、Br₂或I₂；随后

(b)使包含卤化锶膜的所述基板表面暴露于氧化剂；及

(c)使所述基板表面受热或暴露于等离子体下，藉以在所述基板表面上提供氧化锶膜。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述锶前体包括Sr(thd)₂(双(四甲基庚二酮)锶)、Sr(methd)₂(双(甲氧基乙氧基四甲基庚二酮)锶)或Sr(dpm)₂(双(二叔戊酰基甲烷)锶)。

12.如权利要求10所述的方法，其中所述氧化剂包括以下物质的其中一者或更多者：H₂O、H₂O₂、O₂、O₃、N₂O、NOx、硝酸盐类、醇类、羧酸类、CO、CO₂及HCOH。