[发明专利]电路板、导电膜形成方法和粘合性改进剂在审

专利信息
申请号: 201380025631.2 申请日: 2013-02-28
公开(公告)号: CN104303609A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 川户祐一;三田伦广;前田祐介;工藤富雄 申请(专利权)人: 日本石原化学株式会社
主分类号: H05K3/38 分类号: H05K3/38;H05K1/09;H05K3/24
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 吴小瑛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在通过光烧结铜颗粒组成的膜形成的导电膜中,改善该导电膜对基底材料的粘合性。电路板1包括包含导电膜2的电路,以及基板3。该电路板1进一步包括在基板3与导电膜2之间的树脂层4。该基板3由非热塑性基底材料31制成。该树脂层4含有热塑性树脂。该导电膜2通过光烧结铜颗粒21组成的膜形成,并由此通过树脂层4改善导电膜2对基底材料31的粘合性。
搜索关键词: 电路板 导电 形成 方法 粘合 改进
【主权项】:
电路板,包含包括导电膜的电路,以及基板,所述电路板进一步包含:在所述基板与所述导电膜之间的树脂层,其中所述基板由非热塑性基底材料制成,所述树脂层含有热塑性树脂,并且所述导电膜通过对由铜颗粒组成的膜进行光烧结而形成。
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