[发明专利]表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法有效
| 申请号： | 201380015496.3 | 申请日： | 2013-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN104204943B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 岩村贤一郎;内村洋文;塚本雅弘;广濑隆德;平野政胜 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 具备利用一对长边部(10a)和一对短边部(10b)形成为大致矩形的框状的表膜构件框体(10)和铺展支承在该表膜构件框体(10)上的表膜(11)，上述边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，上述边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，长边部(10a)和短边部(10b)中的至少一边部向表膜构件框体(10)的外侧鼓出。而且，在该鼓出的边部朝向表膜构件框体(10)的内侧发生了弹性变形的状态下，表膜(11)粘贴在表膜构件框体(10)上。 | ||
| 搜索关键词： | 构件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种表膜构件框体，其利用四个边部形成为大致矩形的框状，而铺展支承表膜，其中，上述边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，上述边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，至少一对上述边部向上述表膜构件框体的外侧鼓出。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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