[发明专利]表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法

说明书

具备利用一对长边部(10a)和一对短边部(10b)形成为大致矩形的框状的表膜构件框体(10)和铺展支承在该表膜构件框体(10)上的表膜(11)，上述边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，上述边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，长边部(10a)和短边部(10b)中的至少一边部向表膜构件框体(10)的外侧鼓出。而且，在该鼓出的边部朝向表膜构件框体(10)的内侧发生了弹性变形的状态下，表膜(11)粘贴在表膜构件框体(10)上。

技术领域

本发明涉及表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法，上述表膜构件用于防止在制造构成LSI、液晶显示器(LCD)的薄膜晶体管(TFT)、滤色片(CF)等时的光刻工序中所使用的光掩膜、中间掩膜(reticle)等曝光用基盘上附着异物。

背景技术

例如，在制造半导体装置、液晶显示器等的电路图案时的光刻工序中，出于防止在光掩模、中间掩模等曝光用基盘上附着异物的目的，在曝光用基盘上安装通常被称作表膜构件的防尘罩。

该表膜构件通常是这样形成的：在形状与曝光用基盘的形状相匹配的、厚度为几毫米左右的表膜构件框体的上边缘面上铺展并粘接厚度为10μm以下的包括硝酸纤维素或者纤维素衍生物(cellulose derivative)或者氟系聚合物等透明的高分子材料的膜(以下称作“表膜”)，且在该表膜构件框体的下边缘面上涂敷粘合材料，并且以规定的粘接力在该粘合材料表面粘接保护薄膜。

上述粘合材料用于将表膜构件粘着在曝光用基盘上，另外，保护薄膜用于保护粘合材料的粘接面，以在粘合材料被使用之前维持粘合材料的粘接力。

然而，在具有安装有表膜构件的曝光用基盘的曝光装置中，为了进行高尺寸精度的曝光处理，需要抑制光所通过的表膜因自重而产生挠曲。特别是，近年来，为了实现液晶面板的大型化、提高液晶面板的生产率而使曝光用基盘的尺寸大型化，与此同时，表膜的面积也以5000cm²、10000cm²、15000cm²逐年增大，因此，挠曲量相应地变大，表膜的挠曲逐渐成为较大的问题。

作为能够应用于在大型的TFTLCD(薄膜晶体管液晶显示器)等的光刻工序中所使用的大型的光掩模、中间掩模的表膜构件的框体，通常是具有长边和短边的矩形形状的构件。若在该框体上粘贴表膜，则框体的边因该表膜的张力而朝向内侧变形，该变形有时使光掩模、中间掩模的有效曝光区域减小，随着表膜的铺展面积变大(表膜变大)，上述的有效曝光区域减小的现象越加明显。针对这样的现象，在极力维持住表膜构件的框体的内侧面积(以下称作有效面积)的状态下提高表膜构件框体的刚性，能够防止上述现象发生(例如参照专利文献1～4)。

此外，近年来，对于液晶进行了这样的研究：对一张较大的面板进行多单元化，从而能够自一张较大的面板获得多个面积较小的画面的图案(pattern)，如个人计算机、移动电话等的画面的图案。因此，迫切期望使有效曝光面积比以往大。但是，由于装置自身使用以往的结构，因此，产生以下这样的新课题，即不变更表膜构件的外尺寸地使有效曝光面积比以往大。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001－109135号公报

专利文献2：日本特开2001－42507号公报

专利文献3：日本特开2002－296763号公报

专利文献4：日本特开2006－56544号公报

发明内容

发明要解决的问题

表膜构件当如上所述那样粘贴表膜时，则框体的边因该表膜的张力而朝向内侧变形，但通过采用在上述文献等中所记载的技术，表膜构件框体的变形量小于由表膜的张力引起的变形量，从而能够保持平衡。