[发明专利]在玻璃基板上沉积二氧化硅涂层的化学气相沉积工艺

摘要

本发明提供用于沉积二氧化硅涂层的CVD工艺。该工艺包括提供玻璃基板。该工艺还包括形成气态混合物，该气态混合物包括硅烷化合物、氧、含氟化合物和诸如乙烯或丙烯的自由基清除剂。将气态混合物朝向并沿着玻璃基板引导且使得气态混合物在玻璃基板的上方反应以便在其上形成二氧化硅涂层。

主权项

一种沉积二氧化硅涂层的化学气相沉积工艺，包括：在浮法玻璃制造工艺中提供浮法玻璃带；形成气态混合物，所述气态混合物包括硅烷化合物、氧、含氟化合物和自由基清除剂；以及将所述气态混合物朝向并沿着浮法玻璃带引导，且使得混合物在浮法玻璃带的上方反应，以便在浮法玻璃带上形成二氧化硅涂层，所述二氧化硅涂层具有至多微量的氟。