[实用新型]一种LED外延结构有效
申请号: | 201320797641.5 | 申请日: | 2013-12-06 |
公开(公告)号: | CN203617330U | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 南琦;吴岳 | 申请(专利权)人: | 苏州新纳晶光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/32 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人: | 陆明耀;陈忠辉 |
地址: | 215021 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种LED外延结构,自下而上依次包括:衬底、GaN成核层、GaN缓冲层、n型GaN层、有源层、p型GaN层以及p型接触层;所述有源层具有由至少两对MQW发光层组成,所述MQW发光层包括由AlGaN/n-GaN交替堆叠组成的超晶格量子垒层及由InGaN构成的量子阱层。本实用新型的有益效果主要体现在:可有效提高MQW晶格质量,大幅增加有源层中每个量子阱的电子或空穴的俘获几率,有效降低器件Droop负效应影响,提高LED器件的内量子效率的目的,可很好的应用在高功率器件中,并保持器件的高光效值。 | ||
搜索关键词: | 一种 led 外延 结构 | ||
【主权项】:
一种LED外延结构,自下而上依次包括:衬底、GaN成核层、GaN缓冲层、n型GaN层、有源层、p型GaN层以及p型接触层;其特征在于:所述有源层具有由至少两对MQW发光层组成,所述MQW发光层包括由AlGaN/n‑GaN交替堆叠组成的超晶格量子垒层及由InGaN构成的量子阱层。
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