[实用新型]一种PECVD板式镀膜板框有效
申请号: | 201320291383.3 | 申请日: | 2013-05-24 |
公开(公告)号: | CN203270028U | 公开(公告)日: | 2013-11-06 |
发明(设计)人: | 符昌京;聂文广 | 申请(专利权)人: | 海南英利新能源有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/513;H01L31/18 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏晓波 |
地址: | 570000 海南省海口市国*** | 国省代码: | 海南;66 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种PECVD板式镀膜板框,包括硅片框,所述硅片框的四个侧面均有石墨条,所述石墨条均设置有镂空图案。即在普通的PECVD板式镀膜板框的基础上特别地增加镂空图案,硅片框中设置有硅片,在与硅片相接触的四边石墨条上增加镂空图案,当PECVD板式镀膜板框搭载硅片在工艺腔镀膜时,硅片边缘的石墨条上的镂空图案可以很好地排泄多余氮化硅等离子体的气流,避免PECVD板式镀膜板框搭载硅片镀膜时氮化硅过多地沉积在石墨条上,不会影响电池片边缘的镀膜效果,并降低了硅片镀膜后的色差,提高电池片的外观等级,增加板框工作运行时间,降低车间生产成本,具有很高的使用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 板式 镀膜 | ||
【主权项】:
一种PECVD板式镀膜板框,包括硅片框(1),所述硅片框(1)的四个侧面均有石墨条(2),其特征在于,所述石墨条(1)均设置有镂空图案(5)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海南英利新能源有限公司,未经海南英利新能源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320291383.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于暖风机的安全脚架
- 下一篇:一种热风炉用能隔绝火焰的组合式热风管
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的