[实用新型]一种PECVD板式镀膜板框有效
| 申请号： | 201320291383.3 | 申请日： | 2013-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN203270028U | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 符昌京;聂文广 | 申请（专利权）人： | 海南英利新能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/513;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏晓波 |
| 地址： | 570000 海南省海口市国*** | 国省代码： | 海南;66 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 pecvd 板式 镀膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种PECVD板式镀膜板框，包括硅片框（1），所述硅片框（1）的四个侧面均有石墨条（2），其特征在于，所述石墨条（1）均设置有镂空图案（5）。
2.根据权利要求1所述的PECVD板式镀膜板框，其特征在于，所述镂空图案（5）为多个。
3.根据权利要求2所述的PECVD板式镀膜板框，其特征在于，所述镂空图案（5）均匀分布。
4.根据权利要求2所述的PECVD板式镀膜板框，其特征在于，每个所述石墨条（2）上具有的镂空图案（5）的形状均相同。
5.根据权利要求1所述的PECVD板式镀膜板框，其特征在于，所述石墨条（2）上具有实心支撑处（4）。
6.根据权利要求5所述的PECVD板式镀膜板框，其特征在于，所述实心支撑处（4）位于相邻的两个石墨条（2）的交叉处。
7.根据权利要求1所述的PECVD板式镀膜板框，其特征在于，所述镂空图案（5）中设置有金属固定支架（3）。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
