[实用新型]一种湿法刻蚀机

摘要

本实用新型公开了一种湿法刻蚀机，该湿法刻蚀机包括刻蚀槽、溢流槽、挡板、滚轮和盖板，其中，刻蚀槽内盛满反应药液，且通过挡板与溢流槽相分隔，刻蚀槽与溢流槽内均设置有承载硅片的滚轮，通过滚轮的转动传输硅片，盖板设置于挡板的上方，该盖板固定于滚轮的支架上，且其下表面与挡板的上沿具有预定距离。这样，在刻蚀工艺进行过程中，硅片通过挡板时溅起的药液会被盖板挡住，盖板阻挡了溅起的药液溅落在后续的硅片上，从而减少了不合格片的产生，从根本上保证了硅片加工的合格率，不仅节省了挑拣不合格片的人工，还节省了不合格片处理时所需的成本，并提高了生产效率。

主权项

一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽（21）和与所述刻蚀槽（21）通过挡板（22）分隔的溢流槽（23），所述刻蚀槽（21）与所述溢流槽（23）内均设置有承载硅片（24）的滚轮（25）；其特征在于，还包括设置于所述挡板（22）上方的盖板（26），所述盖板（26）固定于所述滚轮（25）的支架，且其下表面与所述挡板（22）的上沿具有预定距离。