[实用新型]一种湿法刻蚀机

权利要求书

1.一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽（21）和与所述刻蚀槽（21）通过挡板（22）分隔的溢流槽（23），所述刻蚀槽（21）与所述溢流槽（23）内均设置有承载硅片（24）的滚轮（25）；其特征在于，还包括设置于所述挡板（22）上方的盖板（26），所述盖板（26）固定于所述滚轮（25）的支架，且其下表面与所述挡板（22）的上沿具有预定距离。 

2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀机，其特征在于，还包括安装架（27），所述盖板（26）通过所述安装架（27）固定于所述支架。 

3.根据权利要求2所述的湿法刻蚀机，其特征在于，所述安装架（27）在垂直于所述硅片（24）运动方向上的长度，等于所述支架在该方向上的宽度，且所述安装架（27）以其两端固定于所述支架。 

4.根据权利要求3所述的湿法刻蚀机，其特征在于，所述安装架（27）的两端部分别开设有螺纹孔（28），并通过螺栓与所述支架固定连接。 

5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀机，其特征在于，所述安装架（27）在垂直于所述硅片（24）运动方向上的长度，大于所述盖板（26）在该方向上的长度。 

6.根据权利要求1至5任一项所述的湿法刻蚀机，其特征在于，所述盖板（26）在垂直于所述硅片（24）运动方向上的长度，等于所述挡板（22）在该方向上的长度。 

7.根据权利要求2至5任一项所述的湿法刻蚀机，其特征在于，所述安装架（27）的下沿焊接于所述盖板（26）的上表面。