[实用新型]加热炉有效
申请号: | 201320079166.8 | 申请日: | 2013-02-20 |
公开(公告)号: | CN203205389U | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 余常晖;曾文正 | 申请(专利权)人: | 富强半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;F27B17/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;李静 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种加热炉,包含有一加热腔体、多个加热件、两个轨道以及一放置架。该加热腔体具有一腔体内表面,加热件均匀间隔地设置于该腔体内表面,该两个轨道间隔地设置于该腔体内表面,且该两个轨道之间设置有加热件,该放置架包含有两个分别对应该两个轨道的滑移部,以及一设置于该滑移部远离该轨道一侧的容置槽,该容置槽用以容置至少一待加热物。位于该两个轨道之间的加热件可利用该两个轨道之间的间隔而直接将其发出的热能通过热辐射、热传导以及热对流的方式传递至该放置架,使该放置架内的待加热物可均匀受热,以符合使用需求。 | ||
搜索关键词: | 加热炉 | ||
【主权项】:
一种加热炉,其特征在于,所述加热炉包括有:一加热腔体,所述加热腔体具有一前端、一远离所述前端的后端、一位于所述前端与所述后端之间的加热空间和一围绕所述加热空间的腔体内表面;多个间隔地设置于所述腔体内表面的加热件;两个彼此间隔的轨道,所述轨道均在所述前端与所述后端之间延伸并各自设置在至少两个相邻的所述加热件之间,所述轨道之间形成有一与所述加热空间连通的流通口;以及一自所述前端经所述轨道滑移进入所述加热空间内的放置架,所述放置架包含有两个分别与所述轨道对应的滑移部、以及一设置于所述滑移部之间供容置至少一待加热物的容置槽,所述容置槽具有一与所述流通口相互连通的底部开口,使所述待加热物的一底侧区域裸露于所述加热空间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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