[发明专利]一种阵列基板及其制备方法有效
| 申请号： | 201310736155.7 | 申请日： | 2013-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN103744213A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 木素真;胡明 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1337;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板及其制备方法，属于显示领域，其可解决现有技术中由于有机膜层较厚在有机膜层上开过孔会造成其上方的开口区域较深，从而导致后续各个功能层的段差较大，液晶取向不良的问题。本发明的阵列基板，所述的阵列基板包括设置在基板上的有机膜层，所述的有机膜层具有第一过孔区域，在所述的第一过孔区域的远离基板的方向上具有开口区域，所述的开口区域设有第一金属层。由于第一金属层填充了开口区域，整个取向层会在开口区域具有较小的段差，更有利于避免液晶取向不良。同时，第一金属层完全覆盖下方的第三金属层，可以使第三金属层免于裸露在阵列基板的外面、接触到潮湿的空气发生腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括设置在基板上的功能层，所述的功能层具有第一过孔区域，在所述的第一过孔区域的远离基板的方向上具有开口区域，其特征在于，所述的开口区域设有第一金属层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310736155.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
