[发明专利]彩膜基板的修补方法有效
| 申请号： | 201310721868.6 | 申请日： | 2013-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN103676242A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 李启明;张明文;吴斌;李晶晶;李朝阳;崔秀娟;李娟 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李迪 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩膜基板的修补方法，该彩膜基板的修补方法包括：捕获彩膜基板的图像；对该图像进行灰度化处理；根据该图像的灰度值在该图像中提取缺陷区域；检测该缺陷区域的边缘；根据该缺陷区域的边缘对该缺陷区域进行分块处理，得到该缺陷区域的子缺陷区域；在该子缺陷区域内选取研磨点进行研磨。本发明实通过将彩膜基板中的缺陷分为若干部分，然后分别对该若干部分进行测高研磨，从而解决了尺寸较大的缺陷点会出现过研磨的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 修补 方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的修补方法，其特征在于，包括：捕获彩膜基板的图像；对所述图像进行灰度化处理；根据所述图像的灰度值在所述图像中提取缺陷区域；检测所述缺陷区域的边缘；根据所述缺陷区域的边缘对所述缺陷区域进行分块处理，得到所述缺陷区域的子缺陷区域；在所述子缺陷区域内选取研磨点进行研磨。
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