[发明专利]TEM 样品载网支持膜及其制备方法、TEM 样品分析方法在审
申请号: | 201310705738.3 | 申请日: | 2013-12-19 |
公开(公告)号: | CN104730291A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 于会生;段淑卿;陈柳;赵燕丽;郭志蓉 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G01Q30/20 | 分类号: | G01Q30/20;G01Q30/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种TEM样品载网支持膜及其制备方法、TEM样品分析方法。其中,所述TEM样品载网支持膜至少包括:承载组件,所述承载组件中设置有镂空区域,所述镂空区域中包括多个镂空部;碳膜,覆盖于所述镂空区域上;其中,至少一个所述镂空部上覆盖的碳膜中设置有一个样品孔。所述TEM样品载网支持膜的碳膜上设置的样品孔适于在进行TEM分析时,避免TEM样品受到碳膜的影响,同时能很牢固的吸附在碳膜上,并得到碳膜足够的支撑力。 | ||
搜索关键词: | tem 样品 支持 及其 制备 方法 分析 | ||
【主权项】:
一种TEM样品载网支持膜,其特征在于,所述TEM样品载网支持膜至少包括:承载组件,所述承载组件中设置有镂空区域,所述镂空区域中包括多个镂空部;碳膜,覆盖于所述镂空区域上;其中,至少一个所述镂空部上覆盖的碳膜中设置有一个样品孔。
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