[发明专利]一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统有效
| 申请号： | 201310676060.0 | 申请日： | 2013-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN103834934A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 何祝兵;王春柱;苏奇聪 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统，包括：用于远程监控和数据记录查询的第一监控设备组、用于数据处理及参数配置的第二监控设备组、以太网交换机、用于控制工艺操作的第一控制设备组和用于执行工艺操作的第二控制设备组；所述第一监控设备组和所述第二监控设备组分别通过以太网交换机，与所述第一控制设备组连接，所述第一控制设备组与所述第二控制设备组连接；第二控制设备组包括用于样品传输的装载室和用于工艺操作的反应室。采用本发明，可满足实时监控工艺操作工程，执行大数据处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 增强 化学 沉积 控制系统 | ||
【主权项】：
一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统，其特征在于，包括用于远程监控和数据记录查询的第一监控设备组、用于数据处理及参数配置的第二监控设备组、以太网交换机、用于控制工艺操作的第一控制设备组和用于执行工艺操作的第二控制设备组；所述第一监控设备组和所述第二监控设备组分别通过以太网交换机，与所述第一控制设备组连接，所述第一控制设备组与所述第二控制设备组连接；其中，所述第一控制设备组包括可编程控制器组、分布式输入输出端口组和智能设备组；第二控制设备组包括用于样品传输的装载室和用于工艺操作的反应室。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
