[发明专利]LED芯片及其形成方法在审
申请号: | 201310594912.1 | 申请日: | 2013-11-21 |
公开(公告)号: | CN104659161A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 张杰;彭遥 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/58;H01L33/02 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种LED芯片及其形成方法。其中该LED芯片包括:衬底;第一掺杂类型半导体层,第一掺杂类型半导体层位于衬底上;第一电极,第一电极与第一掺杂类型半导体层接触;多量子阱,多量子阱位于第一掺杂类型半导体层上;第二掺杂类型半导体层,第二掺杂类型半导体层位于多量子阱上;电流扩散层,电流扩散层位于第二掺杂类型半导体层上;第二电极,第二电极位于电流扩散层的第一区域上;出光过渡层,出光过渡层位于电流扩散层的第二区域上;以及钝化层,钝化层位于出光过渡层上,其中,电流扩散层、出光过渡层和钝化层的折射率匹配。本发明的LED芯片具有出光角度大等优点。 | ||
搜索关键词: | led 芯片 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种LED芯片,其特征在于,包括:衬底;第一掺杂类型半导体层,所述第一掺杂类型半导体层位于所述衬底上;第一电极,所述第一电极与所述第一掺杂类型半导体层接触;多量子阱,所述多量子阱位于所述第一掺杂类型半导体层上;第二掺杂类型半导体层,所述第二掺杂类型半导体层位于所述多量子阱上;电流扩散层,所述电流扩散层位于所述第二掺杂类型半导体层上;第二电极,所述第二电极位于所述电流扩散层的第一区域上;出光过渡层,所述出光过渡层位于所述电流扩散层的第二区域上;以及钝化层,所述钝化层位于所述出光过渡层上,其中,所述电流扩散层、出光过渡层和钝化层的折射率匹配。
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