[发明专利]片上解耦电容器、集成芯片及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310594462.6 申请日: 2013-11-21
公开(公告)号: CN103855150A 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: D·B·法默;A·D·富兰克林;汉述仁;G·S·图勒夫斯基 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/01 分类号: H01L27/01;H01L21/70
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 于静;张亚非
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及片上解耦电容器、集成芯片及其制造方法。公开了一种片上解耦电容器。一个或多个碳纳米管被耦合到所述电容器的第一电极。在所述一个或多个碳纳米管上形成介电肤层。在所述介电肤层上形成有金属涂层。所述介电肤层被配置为将所述一个或多个碳纳米管与所述金属涂层电隔离。
搜索关键词: 片上解耦 电容器 集成 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
一种片上解耦电容器,其包括:耦合到第一电极的一个或多个碳纳米管;形成在所述一个或多个碳纳米管上的介电肤层;以及形成在所述介电肤层上的金属涂层,其中所述介电肤层被配置为将所述一个或多个碳纳米管与所述金属涂层电隔离。
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