[发明专利]一种原子层沉积前驱体输出装置有效
申请号: | 201310585179.7 | 申请日: | 2013-11-19 |
公开(公告)号: | CN103602959A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 陈蓉;邓章;曹坤;单斌;文艳伟 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 朱仁玲 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种原子层沉积前驱体输出装置,该输出装置由装载前驱体的钢瓶(101),缓存腔(103),连接所述钢瓶(101)与缓存腔(103)的第一开关阀(102),位于所述缓存腔腔体内且与所述缓存腔腔体气密性良好的运动活塞(104),以及控制输出主管路的第二开关阀(105)构成。本发明通过固定空间的气体体积变化,每次稳定的排出等量前驱体,保证定量输出前驱体,能够更好的适应于前驱体用量优化分析及在线监测系统分析。 | ||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 前驱 输出 装置 | ||
【主权项】:
一种原子层沉积前驱体输出装置,其特征在于:所述输出装置由装载前驱体的钢瓶(101),缓存腔(103),连接所述钢瓶(101)与缓存腔(103)的第一开关阀(102),位于所述缓存腔腔体内且与所述缓存腔腔体气密性良好的运动活塞(104),以及控制输出主管路的第二开关阀(105)构成;开启第一开关阀(102)后,所述钢瓶(101)中前驱体分子自由扩散至所述缓存腔(103)中并维持固定空间的体积,然后关闭所述第一开关阀(102)并开启第二开关阀(105),所述活塞(104)运动将所述缓存腔内气体分子经由所述第二开关阀(105)推进主管路。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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