[发明专利]真空装置、其压力控制方法和蚀刻方法

摘要

本发明要解决的技术问题是在主要利用APC阀进行处理容器内的压力调节的真空装置中，抑制急剧的压力变化。按照步骤S1～步骤S5的步骤，能够抑制处理容器（1）内的压力变化。在步骤S1中，EC（81）取得APC阀（55）的开度，在步骤S2中，利用EC（81）的开度判定部（123）判断步骤S1中取得的APC阀（55）的开度是否已超过第一阈值。当在步骤S2中判定为开度超过第一阈值（是）的情况下，在步骤S3中超过计数器（124）将超过计数值累加1次计数。接着，在步骤S4中，进行由超过计数器（124）计数的超过计数值的累计值是否已超过第二阈值的判定，在判定为超过计数值超过第二阈值（是）的情况下，流量控制部（121a）经由MC（83）对质量流量控制器（MFC）（43）发送控制信号，使得使处理气体的流量减少规定量。

主权项

一种真空装置，其特征在于，具备：收容被处理体、并且能够将内部保持真空的处理容器；经由气体供给路径对所述处理容器内供给处理气体的气体供给源；设置于所述气体供给路径上，对所述处理气体的供给流量进行调节的流量调节装置；检测所述处理容器内的压力的压力检测装置；经由排气路径与所述处理容器连接的排气装置；设置于所述排气路径上，根据由所述压力检测装置检测出的压力值，自动地调节开度的自动压力控制阀；监视所述自动压力控制阀的开度的开度监视部；和根据所述开度监视部的监视结果，利用所述流量调节装置对供给的气体流量进行调节的流量控制部，所述流量控制部在所述自动压力控制阀的开度上升了的情况下，反复执行控制所述流量调节装置的处理，使得所述处理气体的供给流量减少预先设定的减少量。