[发明专利]一种水基硅片清洗剂及其制备方法无效
申请号: | 201310528004.2 | 申请日: | 2013-10-31 |
公开(公告)号: | CN103571644A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 郭万东;孟祥法;董培才 | 申请(专利权)人: | 合肥中南光电有限公司 |
主分类号: | C11D1/83 | 分类号: | C11D1/83;C11D3/60;C11D3/36 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 231600 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种水基硅片清洗剂,由下列重量份的原料制成:硼酸钠2-3、焦磷酸钾1-2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3-4、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠4-5、柠檬酸2-3、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120。本发明的清洗剂对有机物、金属离子、颗粒等有快速的清除能力,对硅片无腐蚀;损耗更少,降低成本,节约时间、从而大大的减少硅片废品率,以及更快的制造出数量更多的,质量更好的硅片。本发明的助剂能够在硅片表面形成保护膜,隔绝空气,防止大气中水及其他分子腐蚀硅片,抗氧化,方便下一步制作工艺进行。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅片 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种水基硅片清洗剂,其特征在于由下列重量份的原料制成:硼酸钠2‑3、焦磷酸钾1‑2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3‑4、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠4‑5、柠檬酸2‑3、乙醇30‑40、助剂4‑5、去离子水100‑120;所述助剂由下列重量份的原料制成:硅烷偶联剂KH‑570 2‑3、抗氧剂1035 1‑2、植酸1‑2、吗啉3‑4、甲基丙烯酸‑2‑ 羟基乙酯3‑4、乙醇12‑15;制备方法是将硅烷偶联剂KH‑570 、植酸、乙醇混合,加热至60‑70℃,搅拌20‑30分钟后,再加入其它剩余成分,升温至80‑85℃,搅拌30‑40分钟,即得。
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