[发明专利]一种水基硅片清洗剂及其制备方法

权利要求书

1.一种水基硅片清洗剂，其特征在于由下列重量份的原料制成：硼酸钠2-3、焦磷酸钾1-2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3-4、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠4-5、柠檬酸2-3、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120；

所述助剂由下列重量份的原料制成：硅烷偶联剂KH-570 2-3、抗氧剂1035 1-2、植酸1-2、吗啉3-4、甲基丙烯酸-2- 羟基乙酯3-4、乙醇12-15；制备方法是将硅烷偶联剂KH-570 、植酸、乙醇混合，加热至60-70℃，搅拌20-30分钟后，再加入其它剩余成分，升温至80-85℃，搅拌30-40分钟，即得。

2.根据权利要求1所述水基硅片清洗剂的制备方法，其特征在于包括以下步骤：将去离子水、硼酸钠、焦磷酸钾、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、柠檬酸、乙醇混合，在1000-1200转/分搅拌下，以6-8℃/分的速率加热到60-70℃，加入其他剩余成分，继续搅拌15-20分钟，即得。