[发明专利]一种高精度掩模板的制作方法在审
| 申请号： | 201310523698.0 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN103556150A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;魏志浩;莫松亭 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23C14/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高精度掩模板的制作方法，包括通过蚀刻工艺蚀刻金属基板的两面制作掩模板的蚀刻步骤，金属基板的两面包括掩模板的开口区域和非开口区域，开口区域包括蚀刻区域和非蚀刻区域，非蚀刻区域在开口区域的中央，蚀刻区域是由非蚀刻区域的外边缘与对应的开口区域的内边缘围成的封闭区域，在蚀刻步骤中，金属基板两面的非开口区域和非蚀刻区域设有保护膜，蚀刻液与蚀刻区域的金属反应，在蚀刻区域形成贯穿金属基板的通孔，所述通孔使非蚀刻区域从对应的开口区域脱离，在所述开口区域形成掩模开口。利用本发明提供的方法制作大开口的掩模板时，可以提高掩模开口的精度，从而提高蒸镀质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 模板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种高精度掩模板的制作方法，包括通过蚀刻工艺蚀刻金属基板的两面制作掩模板的蚀刻步骤，其特征在于：所述金属基板的两面包括掩模板的开口区域和非开口区域，所述开口区域包括蚀刻区域和非蚀刻区域，所述非蚀刻区域在所述开口区域的中央，所述蚀刻区域是由所述非蚀刻区域的外边缘与对应的所述开口区域的内边缘围成的封闭区域，在所述蚀刻步骤中，所述金属基板两面的非开口区域和所述非蚀刻区域设有保护膜，蚀刻液与所述蚀刻区域的金属反应，在所述蚀刻区域形成贯穿所述金属基板的通孔，所述通孔使所述非蚀刻区域从对应的所述开口区域脱离，在所述开口区域形成掩模开口。
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