[发明专利]近距离耦合喷淋头及反应腔室无效
| 申请号: | 201310518681.6 | 申请日: | 2013-10-28 |
| 公开(公告)号: | CN103556128A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
| 发明(设计)人: | 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/34 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
| 地址: | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种近距离耦合喷淋头及反应腔室。所述近距离耦合喷淋头包括第一气体管道和第二气体管道,用于将反应气体引出至反应区域,所述近距离耦合喷淋头具有朝向反应区域的出气面,所述第一气体管道和第二气体管道贯穿所述出气面,所述出气面沿半径方向被均匀分为多个区域,在每个所述区域中,所述第一气体管道的出气口成条状排布形成第一气孔排,所述第二气体管道的出气口成条状排布形成第二气孔排,所述第一气孔排和第二气孔排间隔设置。出气口呈条状排布,简化了近距离耦合喷淋头的复杂程度,使得制造过程变得简单;通过将出气面均匀分为多个区域,有利于保证反应气体的均匀性。 | ||
| 搜索关键词: | 近距离 耦合 喷淋 反应 | ||
【主权项】:
一种近距离耦合喷淋头,用于向反应腔室的反应区域提供反应气体,所述近距离耦合喷淋头至少包括第一气体管道和第二气体管道,用于将反应气体引出至反应区域,其特征在于,所述近距离耦合喷淋头具有朝向反应区域的出气面,所述第一气体管道和第二气体管道贯穿所述出气面,所述出气面沿半径方向被均匀分为多个区域,在每个所述区域中,所述第一气体管道的出气口成条状排布形成第一气孔排,所述第二气体管道的出气口成条状排布形成第二气孔排,所述第一气孔排和第二气孔排间隔设置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





