[发明专利]近距离耦合喷淋头及反应腔室无效
| 申请号: | 201310518681.6 | 申请日: | 2013-10-28 |
| 公开(公告)号: | CN103556128A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
| 发明(设计)人: | 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/34 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
| 地址: | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 近距离 耦合 喷淋 反应 | ||
1.一种近距离耦合喷淋头,用于向反应腔室的反应区域提供反应气体,所述近距离耦合喷淋头至少包括第一气体管道和第二气体管道,用于将反应气体引出至反应区域,其特征在于,所述近距离耦合喷淋头具有朝向反应区域的出气面,所述第一气体管道和第二气体管道贯穿所述出气面,所述出气面沿半径方向被均匀分为多个区域,在每个所述区域中,所述第一气体管道的出气口成条状排布形成第一气孔排,所述第二气体管道的出气口成条状排布形成第二气孔排,所述第一气孔排和第二气孔排间隔设置。
2.如权利要求1所述的近距离耦合喷淋头,其特征在于,在每一区域内,所述第一气孔排和第二气孔排包括多条,并且在每个区域中,第一气孔排和第二气孔排沿半径分别呈轴对称排布,且关于该半径呈轴对称排布的两个第一气孔排和两个第二气孔排在所述半径上共端点。
3.如权利要求1或2所述的近距离耦合喷淋头,其特征在于,所述出气面沿周向被平均分为偶数个区域。
4.如权利要求2所述的近距离耦合喷淋头,其特征在于,所述关于所述半径呈轴对称的两条第一气孔排结合呈“人”字型,所述关于所述半径呈轴对称的两条第二气孔排结合呈“人”字型。
5.如权利要求1所述的近距离耦合喷淋头,其特征在于,所述第一气孔排和与相邻的第二气孔排的间距为1-20mm。
6.如权利要求1中任意一项所述的近距离耦合喷淋头,其特征在于,所述近距离耦合喷淋头包括层叠设置的第一气体腔室和第二气体腔室,所述第一气体管道与第一气体腔室相连通,第二气体管道与第二气体腔室相连通。
7.如权利要求6所述的近距离耦合喷淋头,其特征在于,所述第一气体腔室通入第一气体,所述第二气体腔室通入第二气体,所述第一气体为III族气体,所述第二气体为V族气体。
8.如权利要求7所述的近距离耦合喷淋头,其特征在于,所述出气面呈齿状,所述第一气体管道位于所述齿状的凸起中,所述第二气体管道位于所述齿状的凹陷中。
9.一种反应腔室,包括:腔体、用于装载衬底的托盘和喷淋头,所述托盘设置于所述腔体的底部,所述喷淋头设置在所述腔体的顶部并与所述托盘相对设置,所述托盘与所述喷淋头之间限定气体反应区域,所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体;其特征在于,所述喷淋头为如权利要求1-8中任意一项所述的近距离耦合喷淋头,所述托盘的转速大于等于100r/min。
10.如权利要求9所述的气相沉积反应腔,其特征在于,所述托盘的转速为100r/min-300r/min。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





