[发明专利]沉积装置、薄膜形成方法和制造有机发光显示装置的方法有效
申请号: | 201310476177.4 | 申请日: | 2013-10-12 |
公开(公告)号: | CN103866261B | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 许明洙;郑石源;李正浩;洪祥赫;李勇锡 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/44;H01L51/56 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 于未茗;康泉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 公开沉积装置、薄膜形成方法和制造有机发光显示装置的方法。一种用于通过使用关于基板的掩膜执行沉积过程的沉积装置包括:室;在所述室中的支撑单元,所述支撑单元包括第一孔并且被配置为支撑所述基板;供应单元,被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料;和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元,所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜,并且将所述掩膜关于所述基板对齐。 | ||
搜索关键词: | 沉积 装置 薄膜 形成 方法 制造 有机 发光 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于通过使用与基板有关的掩膜执行沉积过程的沉积装置,该沉积装置包括:沉积室,包括在所述沉积室的下部处的透明窗;在所述沉积室中的支撑单元,包括顶表面和延伸通过所述顶表面的第一孔,所述基板由所述顶表面支撑;供应单元,被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料;和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元,所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜,并且将所述掩膜与所述基板对齐;在所述沉积室的所述下部的对齐确认构件,所述对齐确认构件通过所述沉积室的所述透明窗确认所述基板和所述掩膜的对齐状态。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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